Az ipari vákuumíves vékonyréteg-rendszer katódos ívpárologtatást alkalmaz sűrű, erősen tapadó fém-, ötvözet- és kerámia vékonyrétegek lerakására. A nagy-áramú, alacsony{2}}feszültségű ív erősen ionizált plazmaárammá párologtatja el a szilárd katódanyagokat (40% - 80% ionizációs arány), így kivételes filmet-,-hogy erősítsen a hordozóanyagon, és magas lerakódási sebességet biztosítson.

Az ipari termelésre és a fejlett anyagkutatásra tervezett platform több{0}}katódos konfigurációkat, precíziós reaktív gázkezelést és automatizált folyamatvezérlést foglal magában olyan ipari bevonatok esetében, mint a TiN, TiAlN, CrN és DLC.

Műszaki előírások

Paraméter	Specifikáció
Kamra méretei	Phi 600 mm x 600 mm (Testreszabható Phi 1500 mm-ig)
Kamara szerkezete	304 rozsdamentes acél, dupla-falú vízhűtéses-, belső elektropolírozás Ra<= 0.4 um
Alapnyomás	<= 5.0 x 10^-4 Pa (ISO 3567 compliant)
Üzemi nyomás	0,1 Pa - 5.0 Pa
Szivattyús csomag	Forgólapát + Roots ventilátor + Nagy{2}}sebességű diffúziós/turbomolekuláris szivattyú
Íves tápegység	DC/impulzusos egyenáramú generátorok (10 A - 200 A, hullámzás<= 1%)
Substrate Bias	Impulzusos DC előfeszítés: 0 ~ -1000 V ívelnyomással állítható
Katódforrások	2 ~ 6 mágneses-szűrt vagy kormányzott ívforrás (Phi 85 / Phi 100 mm)
Szubsztrát rögzítés	Bolygóforgás (1 ~ 10 RPM) 600 C-ig melegítéssel
Vezérlési architektúra	PLC + ipari érintőképernyős PC (receptautomatizálás, CFR 21 Part 11 kész opció)

Főbb jellemzők

Magas plazmaionizáció:A katódos ívionizáció (40% - 80%) elősegíti a sűrű filmmagképződést, kiküszöbölve az oszlopos mikroszerkezeti hibákat.

Fokozott tapadási szilárdság:A helyszíni, nagy energiájú-ionos tisztítás 40 N feletti kritikus karcterhelést (Lc) ér el szerszámacélon (ASTM C1624 igazolt).

Toroidális mágneses szűrés (opcionális):Eltéríti a plazma pályáit, hogy felfogja és kiküszöbölje a makro{0}}cseppeket, és hibamentes, sima nano-bevonatot hoz létre.

Zárt{0}}hurok reaktív vezérlés:A tömegáram-szabályozók (MFC-k) pontosan szabályozzák az N2, O2, C2H2 és Ar mennyiségét a sztöchiometrikus vegyületlerakódáshoz.

Gyors karbantartás:A gyorskioldó{0}}katód összeállítás lehetővé teszi a céltárgy 30 percen belüli cseréjét.

Vákuumrendszer konfigurációja

Nagyolási és gyökeresedési szakasz:Közvetlen-meghajtású forgólapátos és mechanikus nyomásfokozó szivattyú a gyors 10 Pa-ra történő levezetéshez.

Magas vákuum fokozat:Olajdiffúziós szivattyú folyékony nitrogén hidegcsapdával vagy mágnesesen lebegtetett turbomolekuláris szivattyúval (1600 L/s) < 5 x 10^-4 Pa.

Mérők és reteszek:Kettős Pirani és Cold Cathode ionizációs mérőműszerek automatizált pneumatikus tolózárral és PLC reteszekkel párosítva.

Párolgási anyagok és szubsztrátum kompatibilitás

Cathode Targets (Purity >= 99.95%):
Fémek:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Ag, Au

Ötvözetek/vegyületek:TiAl, TiSi, CrAl, WC, grafit (C)

Szubsztrátum anyagok:
Szerszámacélok:SKH51, M2, D2, keményfém lapkák

Ötvözetek:304/316L rozsdamentes acél, Inconel, Ti-6Al-4V

Kerámia/üveg:Alumínium-oxid, kvarc (felületi aktiválás szükséges)

Alkalmazások

Vágó és alakító szerszámok:TiN, TiAlN és AlCrN bevonatok fúrókon, szármarókon és sajtolószerszámokon (keménység: 2500 - 3200 HV).

Autóipari alkatrészek:Alacsony-súrlódású, kopásálló-bevonatok a dugattyúgyűrűken és az üzemanyag-befecskendező csapokon.

Dekoratív hardver:Funkcionális fémes felületek (arany, rózsaszín arany, fegyverfekete) fogyasztói hardverekhez.

Orvosbiológiai implantátumok:Biokompatibilis kemény bevonatok sebészeti és fogászati eszközökön (ISO 10993 kompatibilis profilok).

Testreszabási lehetőségek

Kamara skála:Megnövelt téglalap vagy hengeres kamrák a nagy mennyiségű{0}}tételekhez.

Hibrid konfigurációk:Kettős{0}}technológiás integráció párosítja a katódos ívforrásokat a kiegyensúlyozatlan magnetronporlasztással (UBMS).

Elfogult módok:RF előfeszítés integráció szigetelő vagy félvezető hordozókhoz.

Adatintegráció:OPC UA / Modbus TCP protokollok MES-kapcsolathoz.

Minőségellenőrzés és tesztelés

ISO 9001 minőségirányítási szabványok szerint végrehajtva:

Hélium szivárgás észlelése:Tömegspektrométeres vizsgálat minden hegesztési varraton (a rendszer szivárgási aránya<= 1.0 x 10^-9 Pa*m^3/s, ISO 3529 compliant).

Elektromos biztonság:A szigetelési ellenállás és a földelés folytonossága a CE / IEC 60204-1 szerint auditált.

Funkcionális érvényesítés:72 órás folyamatos mechanikus és elektromos szárazfutás.

Gyári átvételi teszt (FAT):Próbalerakás, amely ellenőrzi a vastagság egyenletességét (+/{1}}%) és a tapadási mutatókat az ügyfelek tesztszelvényein.

Telepítés és műszaki támogatás

Létesítmény előzetes{0}}ellenőrzése:Complete utility blueprint detailing cooling water (>= 5 m^3/h), teljesítmény és elszívó szellőztetés.

Helyszíni üzembe helyezés:-Felügyelt gépészeti elhelyezés, közüzemi bekötés és vákuum minősítés terepi mérnökök által.

Kezelői képzés:5-napos gyakorlati program, amely a rutin üzemeltetést, karbantartást, céltárgyak cseréjét és PLC-programozást foglalja magában.

Életciklus szolgáltatás:Biztonságos VPN távoli diagnosztika és 48 órás kritikus alkatrészek kiszállítása.

Gyakran Ismételt Kérdések

K: Hogyan befolyásolja a mágneses szűrés a lerakódási sebességet?

V: Míg a mágneses szűrők teljesen kiküszöbölik a makro{0}}cseppeket a precíziós optikai/elektronikus felületeken, a plazmakormányzási út körülbelül 20%-kal - 30%-kal csökkenti a tényleges lerakódási arányt a közvetlen, nem-szűrt kormányív konfigurációkhoz képest.

K: Mi a tipikus célcsere intervallum?

V: Egy szabványos Phi 100 mm-es titán céltárgy 100 A-en működtetve 60 - 100 gyártási tételt eredményez, a filmvastagságtól és a munkaciklustól függően.

K: A nem{0}}vezető hordozók kompatibilisek ezzel a rendszerrel?

V: Igen, feltéve, hogy impulzusos egyenáramú vagy rádiófrekvenciás előfeszítési konfiguráció van megadva, hogy megakadályozza a felületi töltés felhalmozódását és az ívképződést az ionbombázás során.

K: Melyek a szabványos egység pontos használati paraméterei?

V: Tápellátás: 3 fázisú, 380 V +/- 10%, 50/60 Hz (összesen ~45 kW).
Cooling Water: >= 5 m^3/h 0.2 - 0.3 MPa-nál (15 C - 25 C).
Sűrített levegő: 0.5 - 0.7 MPa pneumatikus működtetéshez.

Népszerű tags: vákuumív vékonyréteg-rendszer, Kína vákuumíves vékonyréteg-rendszer gyártói, beszállítói, gyárai, Vékony filmkészítés az intelligens gyártáshoz, vékony film fémizáló rendszer