Ion{0}}Vékonyréteg-leválasztó rendszer

Ion{0}}Vékonyréteg-leválasztó rendszer

Részletek
Az Ion-Assisted Thin Film Deposition System a több-zsebelektron-sugarat/termikus párologtatást egy nagy-teljesítményű End-Hall vagy Kaufman- típusú ionforrással integrálja. A fizikai gőzlerakódás (PVD) során az energetikai ionbombázás a lendületet közvetlenül a szubsztrát felületén lévő adatomokra adja át, megszüntetve az oszlopos mikroszerkezet üregeit, és nagy sűrűségű, környezetilag stabil vékony filmeket hoz létre.
Termék besorolás
Ion{0}}párolgást segítő vékonyréteg-berendezés
 
A szálláslekérdezés elküldése
Leírás
Műszaki paraméterek

Ipari ionos{0}}vékonyréteg-leválasztó rendszer


Az Ion-Assisted Thin Film Deposition System a több-zsebelektron-sugarat/termikus párologtatást egy nagy-teljesítményű End-Hall vagy Kaufman- típusú ionforrással integrálja. A fizikai gőzlerakódás (PVD) során az energetikai ionbombázás a lendületet közvetlenül a szubsztrát felületén lévő adatomokra adja át, megszüntetve az oszlopos mikroszerkezet üregeit, és nagy sűrűségű, környezetilag stabil vékony filmeket hoz létre.


A precíziós optikagyártásra, a félvezető mikroelektronikára és a fejlett K+F létesítményekre tervezett platform szigorú kötegelt -a- ismételhetőséget biztosít összetett optikai interferenciaszűrők, kemény védőbevonatok és félvezető passzivációs rétegek számára.

 

Műszaki előírások

 

Paraméter

Specifikáció

Kamra méretei

Φ 600 mm × 600 mm (Egyedi méretezés Φ 1200 mm-ig)

Végső alapnyomás

< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (Fully baked, dry pumping architecture)

Vákuumszivattyús lakosztály

1600 l/s mágnesesen levitált turbomolekuláris szivattyú olaj{1}}mentes gyökér/száraz tekercses szivattyú kombinációval

Párolgási források

Több-zsebű E-sugaras pisztoly (4 × 10 kW sweep vezérlés) és ellenállás hőforrások

Ionforrás konfigurációja

Rács nélküli vég-Hall / rácsos Kaufman-forrás (nyaláb energia: 50–1500 eV, ionáram: akár 250 mA)

Szubsztrát rögzítés

Változtatható sebességű{0}}bolygóforgási fokozat integrált hordozófűtéssel akár 350 fokig

Filmvastagság egyenletessége

< ± 1% (measured across Φ 400 mm effective deposition zone)

Folyamatvezérlő rendszer

A PLC mag egy ipari PC-vel, amely receptvezérelt{0}}SCADA automatizálási szoftvert futtat

 

Főbb jellemzők


Momentum{0}}Továbbfejlesztett mikrostruktúra:A szabályozott ionrásegítés növeli az adatom felületi mobilitását, hatékonyan gátolja a porózus oszlopos szemcsék növekedését és kiküszöböli a nedvességfelvétel okozta törésmutató-eltolódásokat.


Kettős{0}}csatorna vastagsági visszajelzés:Kettős kvarckristály mikromérleg (QCM) szondákat integrál a szélessávú optikai megfigyelő (BOM) portok mellé a valós idejű -nanométeres-skála vastagságának és sebességének szabályozásához.


Ultra{0}}Tiszta vákuumkamra:304 literes rozsdamentes acélból készült, belső elektro-polírozott felülettel, fém-zárt ÁFA tolózárakkal és pneumatikus fém-tömítésekkel a gázkibocsátás minimalizálása érdekében.


Zárt hurok-reaktív gázszabályozás:A nagy-precíziós tömegáram-szabályozók (MFC-k) a reaktív oxigén-, nitrogén- és argongázokat -sccm alatti felbontással mérik a sztöchiometrikus vegyületrétegek rögzítésére.

 

Vákuumrendszer konfigurációja


Nagyítási vonal:A hermetikusan zárt, olajmentes,{0}}száraz tekercses szivattyúk kiküszöbölik a szénhidrogén-szennyeződés kockázatát a nagyolás és az elővonal szakaszában.


Nagy vákuum integráció:A Maglev turbomolekuláris szivattyúi, amelyek közvetlenül a főkamrához kapcsolódnak nagy-vezetőképességű pneumatikus tolózárakon keresztül, maximalizálják a szivattyúzási sebességet a folyamat és a maradék vízgőzök esetében.


Vákuumos diagnosztika:A redundáns Pirani és Cold Cathode műszerek folyamatos, kereszt{0}}kalibrált nyomásnaplózást biztosítanak az atmoszférától egészen 10⁻⁷ Pa-ig.

 

Párolgási anyagok és szubsztrátum kompatibilitás


Párologtató anyagok:Dielektromos oxidok: SiO₂, TiO₂, Ta2O5, Nb2O5, HfO₂, Al2O3


Fluoridok:MgF₂, LaF3


Tűzálló fémek:Au, Ag, Al, Ti, Cr, NiCr


Szubsztrát altípusok:Optikai üveglapok (BK7, olvasztott szilícium-dioxid, kvarc), félvezető lapkák (Szilícium, GaAs), egy-kristályos hordozók (LiNbO₃, zafír) és precíziós fém alkatrészek.

 

Alkalmazások


Precíziós optika:Keskeny sávú hullámhossz{0}}osztásos multiplexelés (WDM) szűrők, lézeres vonaltükrök és tartós tükröződésgátló (AR) bevonatok a nagy-teljesítményű lézerrendszerekhez.


Félvezető gyártás:Gate oxid dielektrikum, fém összekötő adhéziós magrétegek és nedvesség{0}}záró passziváló bevonatok.


Fejlett optoelektronika:Vékony-filmes polarizátorok, hullámvezető burkolórétegek és átlátszó vezetőképes oxid (TCO) tapintó{1}}panelfilmek.

 

Testreszabás


Kamra burkolatok:Függőleges hengeres csengő-tégelyek, kettős-ajtós négyzetdobozos konfigurációk vagy tisztatéri átmenő-konstrukciók.


Forrás modularitása:Egyedi olvasztótégely-zsebszámlálás, másodlagos magnetron-porlasztásos katód-integráció vagy speciális RF-előfeszítési teljesítménybeállítások.


Automatizálási architektúra:Testreszabott PLC-reteszelési logika, SCADA biztonsági engedélyszintek és SECS/GEM gazdagépadatok{0}}naplózási protokolljai.

 

Minőségellenőrzés


Alkatrész érvényesítése:Minden szerkezeti karimán, vákuumátvezetésen, teljesítményelektronikán és tömegáram-szabályozón egyedi méret- és elektromos próbapadi vizsgálaton esik át az összeszerelés előtt.


Szivárgási tanúsítvány:Az összeszerelt kamrák hélium-tömegspektrométeres szivárgásvizsgálaton esnek át; az elutasítási küszöbnek 1,0 × 10⁻⁹ Pa·m³/s alatt kell maradnia.


Gyári átvételi teszt (FAT):Kötelező 72-órás folyamatos szárazon-futás érvényesítés, amely kiterjed a szivattyúzási lehúzási görbékre, a több-tengelyű bolygóforgási mechanikára, a reteszelő biztonsági hurkokra és az e-beam pisztoly kibocsátási stabilitására.

 

Telepítés és műszaki támogatás


Dokumentáció:Szállítások mechanikai összeállítási rajzokkal, elektromos kapcsolási rajzokkal, P&ID elrendezésekkel, PLC logikai forrásregiszterekkel és megelőző karbantartási útmutatókkal.


Helyszíni üzembe helyezés:-A helyszíni szervizmérnökök irányítják a mechanikai pozicionálást, a közüzemi csatlakozásokat (áram, hűtővíz, sűrített levegő) és a rendszer kezdeti kiégését.


Folyamat képzés:Tartalmazza az alapkalibrációs futtatásokat, az ionforrás paramétereinek hangolását és a kezelői biztonsági protokoll oktatását.


Életciklus gondozás:Távoli diagnosztikai támogatás titkosított VPN-modulokon, regionális pótalkatrész-készleten és ütemezett kalibrációs auditokon keresztül.

 

GYIK

 

K: Hogyan figyelhető meg a rétegvastagság a több-rétegű lerakódás során?

V: A rendszer kettős kvarckristály mikromérleget (QCM) használ a sebesség és vastagság valós idejű nyomon követésére{0}}. Az összetett optikai interferencia-veremekhez integrálható a szélessávú optikai megfigyelőrendszerekkel, hogy a rétegvégpontokat közvetlenül a spektrális átviteli görbékből korrigálja.

K: Milyen közmű-infrastruktúrára van szükség a telepítés helyén?

V: Áramellátás: 3 fázisú, 380 V / 480 V, 50/60 Hz (a regionális hálózati szabványok szerint konfigurálva).
Hűtővíz: Hőmérséklet 15-20 fok, minimális áramlási sebesség 30 L/perc, tápnyomás 0,3-0,4 MPa.
Process Gases: Ultra-high purity (>99,999%) Ar, O2 és N2 tisztán szabályozva 0,15 MPa.

K: Mi a szokásos átfutási idő a megrendelés visszaigazolásától a kézbesítésig?

V: A szabványos konfigurációk általában 16-20 hetet igényelnek. A teljesen személyre szabott kamraméretek vagy a több{{3}forrású integrációs platformok 24-30 hetet igényelnek, a mérnöki tervezéstől- és a speciális alkatrészek beszerzésétől függően.

 

Népszerű tags: ion-asszisztált vékonyréteg-leválasztó rendszer, Kína ion-asszisztált vékonyréteg-leválasztó rendszer gyártók, beszállítók, gyár

A szálláslekérdezés elküldése
Vegye fel velünk a kapcsolatotha kérdése van

Felveheti velünk a kapcsolatot telefonon, e-mailben vagy az alábbi online űrlapon. Szakértőnk hamarosan felveszi Önnel a kapcsolatot.

Lépjen kapcsolatba most!