Ipari ionos{0}}vékonyréteg-leválasztó rendszer
Az Ion-Assisted Thin Film Deposition System a több-zsebelektron-sugarat/termikus párologtatást egy nagy-teljesítményű End-Hall vagy Kaufman- típusú ionforrással integrálja. A fizikai gőzlerakódás (PVD) során az energetikai ionbombázás a lendületet közvetlenül a szubsztrát felületén lévő adatomokra adja át, megszüntetve az oszlopos mikroszerkezet üregeit, és nagy sűrűségű, környezetilag stabil vékony filmeket hoz létre.
A precíziós optikagyártásra, a félvezető mikroelektronikára és a fejlett K+F létesítményekre tervezett platform szigorú kötegelt -a- ismételhetőséget biztosít összetett optikai interferenciaszűrők, kemény védőbevonatok és félvezető passzivációs rétegek számára.
Műszaki előírások
|
Paraméter |
Specifikáció |
|
Kamra méretei |
Φ 600 mm × 600 mm (Egyedi méretezés Φ 1200 mm-ig) |
|
Végső alapnyomás |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (Fully baked, dry pumping architecture) |
|
Vákuumszivattyús lakosztály |
1600 l/s mágnesesen levitált turbomolekuláris szivattyú olaj{1}}mentes gyökér/száraz tekercses szivattyú kombinációval |
|
Párolgási források |
Több-zsebű E-sugaras pisztoly (4 × 10 kW sweep vezérlés) és ellenállás hőforrások |
|
Ionforrás konfigurációja |
Rács nélküli vég-Hall / rácsos Kaufman-forrás (nyaláb energia: 50–1500 eV, ionáram: akár 250 mA) |
|
Szubsztrát rögzítés |
Változtatható sebességű{0}}bolygóforgási fokozat integrált hordozófűtéssel akár 350 fokig |
|
Filmvastagság egyenletessége |
< ± 1% (measured across Φ 400 mm effective deposition zone) |
|
Folyamatvezérlő rendszer |
A PLC mag egy ipari PC-vel, amely receptvezérelt{0}}SCADA automatizálási szoftvert futtat |
Főbb jellemzők
Momentum{0}}Továbbfejlesztett mikrostruktúra:A szabályozott ionrásegítés növeli az adatom felületi mobilitását, hatékonyan gátolja a porózus oszlopos szemcsék növekedését és kiküszöböli a nedvességfelvétel okozta törésmutató-eltolódásokat.
Kettős{0}}csatorna vastagsági visszajelzés:Kettős kvarckristály mikromérleg (QCM) szondákat integrál a szélessávú optikai megfigyelő (BOM) portok mellé a valós idejű -nanométeres-skála vastagságának és sebességének szabályozásához.
Ultra{0}}Tiszta vákuumkamra:304 literes rozsdamentes acélból készült, belső elektro-polírozott felülettel, fém-zárt ÁFA tolózárakkal és pneumatikus fém-tömítésekkel a gázkibocsátás minimalizálása érdekében.
Zárt hurok-reaktív gázszabályozás:A nagy-precíziós tömegáram-szabályozók (MFC-k) a reaktív oxigén-, nitrogén- és argongázokat -sccm alatti felbontással mérik a sztöchiometrikus vegyületrétegek rögzítésére.
Vákuumrendszer konfigurációja
Nagyítási vonal:A hermetikusan zárt, olajmentes,{0}}száraz tekercses szivattyúk kiküszöbölik a szénhidrogén-szennyeződés kockázatát a nagyolás és az elővonal szakaszában.
Nagy vákuum integráció:A Maglev turbomolekuláris szivattyúi, amelyek közvetlenül a főkamrához kapcsolódnak nagy-vezetőképességű pneumatikus tolózárakon keresztül, maximalizálják a szivattyúzási sebességet a folyamat és a maradék vízgőzök esetében.
Vákuumos diagnosztika:A redundáns Pirani és Cold Cathode műszerek folyamatos, kereszt{0}}kalibrált nyomásnaplózást biztosítanak az atmoszférától egészen 10⁻⁷ Pa-ig.
Párolgási anyagok és szubsztrátum kompatibilitás
Párologtató anyagok:Dielektromos oxidok: SiO₂, TiO₂, Ta2O5, Nb2O5, HfO₂, Al2O3
Fluoridok:MgF₂, LaF3
Tűzálló fémek:Au, Ag, Al, Ti, Cr, NiCr
Szubsztrát altípusok:Optikai üveglapok (BK7, olvasztott szilícium-dioxid, kvarc), félvezető lapkák (Szilícium, GaAs), egy-kristályos hordozók (LiNbO₃, zafír) és precíziós fém alkatrészek.
Alkalmazások
Precíziós optika:Keskeny sávú hullámhossz{0}}osztásos multiplexelés (WDM) szűrők, lézeres vonaltükrök és tartós tükröződésgátló (AR) bevonatok a nagy-teljesítményű lézerrendszerekhez.
Félvezető gyártás:Gate oxid dielektrikum, fém összekötő adhéziós magrétegek és nedvesség{0}}záró passziváló bevonatok.
Fejlett optoelektronika:Vékony-filmes polarizátorok, hullámvezető burkolórétegek és átlátszó vezetőképes oxid (TCO) tapintó{1}}panelfilmek.
Testreszabás
Kamra burkolatok:Függőleges hengeres csengő-tégelyek, kettős-ajtós négyzetdobozos konfigurációk vagy tisztatéri átmenő-konstrukciók.
Forrás modularitása:Egyedi olvasztótégely-zsebszámlálás, másodlagos magnetron-porlasztásos katód-integráció vagy speciális RF-előfeszítési teljesítménybeállítások.
Automatizálási architektúra:Testreszabott PLC-reteszelési logika, SCADA biztonsági engedélyszintek és SECS/GEM gazdagépadatok{0}}naplózási protokolljai.
Minőségellenőrzés
Alkatrész érvényesítése:Minden szerkezeti karimán, vákuumátvezetésen, teljesítményelektronikán és tömegáram-szabályozón egyedi méret- és elektromos próbapadi vizsgálaton esik át az összeszerelés előtt.
Szivárgási tanúsítvány:Az összeszerelt kamrák hélium-tömegspektrométeres szivárgásvizsgálaton esnek át; az elutasítási küszöbnek 1,0 × 10⁻⁹ Pa·m³/s alatt kell maradnia.
Gyári átvételi teszt (FAT):Kötelező 72-órás folyamatos szárazon-futás érvényesítés, amely kiterjed a szivattyúzási lehúzási görbékre, a több-tengelyű bolygóforgási mechanikára, a reteszelő biztonsági hurkokra és az e-beam pisztoly kibocsátási stabilitására.
Telepítés és műszaki támogatás
Dokumentáció:Szállítások mechanikai összeállítási rajzokkal, elektromos kapcsolási rajzokkal, P&ID elrendezésekkel, PLC logikai forrásregiszterekkel és megelőző karbantartási útmutatókkal.
Helyszíni üzembe helyezés:-A helyszíni szervizmérnökök irányítják a mechanikai pozicionálást, a közüzemi csatlakozásokat (áram, hűtővíz, sűrített levegő) és a rendszer kezdeti kiégését.
Folyamat képzés:Tartalmazza az alapkalibrációs futtatásokat, az ionforrás paramétereinek hangolását és a kezelői biztonsági protokoll oktatását.
Életciklus gondozás:Távoli diagnosztikai támogatás titkosított VPN-modulokon, regionális pótalkatrész-készleten és ütemezett kalibrációs auditokon keresztül.
GYIK
K: Hogyan figyelhető meg a rétegvastagság a több-rétegű lerakódás során?
V: A rendszer kettős kvarckristály mikromérleget (QCM) használ a sebesség és vastagság valós idejű nyomon követésére{0}}. Az összetett optikai interferencia-veremekhez integrálható a szélessávú optikai megfigyelőrendszerekkel, hogy a rétegvégpontokat közvetlenül a spektrális átviteli görbékből korrigálja.
K: Milyen közmű-infrastruktúrára van szükség a telepítés helyén?
V: Áramellátás: 3 fázisú, 380 V / 480 V, 50/60 Hz (a regionális hálózati szabványok szerint konfigurálva).
Hűtővíz: Hőmérséklet 15-20 fok, minimális áramlási sebesség 30 L/perc, tápnyomás 0,3-0,4 MPa.
Process Gases: Ultra-high purity (>99,999%) Ar, O2 és N2 tisztán szabályozva 0,15 MPa.
K: Mi a szokásos átfutási idő a megrendelés visszaigazolásától a kézbesítésig?
V: A szabványos konfigurációk általában 16-20 hetet igényelnek. A teljesen személyre szabott kamraméretek vagy a több{{3}forrású integrációs platformok 24-30 hetet igényelnek, a mérnöki tervezéstől- és a speciális alkatrészek beszerzésétől függően.
Népszerű tags: ion-asszisztált vékonyréteg-leválasztó rendszer, Kína ion-asszisztált vékonyréteg-leválasztó rendszer gyártók, beszállítók, gyár

