Termék áttekintése

 

Ezt az elektronsugaras párologtatásos vékonyfilm-berendezést nagy-precíziós fizikai gőzleválasztásra (PVD) tervezték. A fókuszált, nagy-energiájú elektronsugarat a forrásanyagok bombázására használva a rendszer magas párolgási sebességet ér el a magas -olvadáspontú- fémek, oxidok és dielektromos anyagok esetében.


A moduláris vákuumarchitektúrára épülő rendszer több-zsebelektronfegyvereket, testreszabható szubsztrát-rögzítéseket és fejlett in{1}}helyi felügyeletet tartalmaz. K+F-laboratóriumokat és nagy áteresztőképességű{3}}gyártósorokat szolgál ki, amelyek szigorú ellenőrzést igényelnek a film sztöchiometriája, adhéziója és az optikai teljesítmény tekintetében.

 
 
Műszaki előírások

 

Paraméter

Specifikációs tartomány

Megjegyzések / Standard konfiguráció

Végső alapnyomás

< 5.0 × 10^-6 Pa

Kriogén vagy turbó{0}}molekuláris pumpáló csoportokkal érhető el

Kamra méretei

Testreszabott (500-1200 mm belső átmérő)

304L / 316L rozsdamentes acél, elektro-polírozott

E-A fegyver teljesítményének besorolása

6 kW-tól 15 kW-ig (több-zsebseprő generátor)

Programozható sugáreltérítés és több{0}}tégelyes indexelés

Lerakódási arány

0,1 nm/s és 10 nm/s között

Valós idejű-zárt-hurkú vezérlés kvarckristály monitoron keresztül

Filmvastagság egyenletessége

< ±1% to ±2% across standard substrates

Bolygós vagy kupola szubsztrát rögzítés változtatható fordulatszámmal

Aljzat hőmérséklete

800 fokos környezeti hőmérséklet

Beépített sugárzó fűtés PID hővisszacsatolással

 

A berendezés legfontosabb jellemzői

Nagy{0}}stabilitású elektronpuska:

Mágneses eltérítéssel és több{0}}pontos fókuszálással rendelkezik, hogy megakadályozza a forrásanyagok helyi túlmelegedését, és kiküszöböli a reaktív párolgás során fellépő köpködést.

Moduláris tégely kialakítása:

4-6-zsebből álló cserélhető kandallóval felszerelve, amely lehetővé teszi a többrétegű lerakódást a vákuum feltörése nélkül.

 

Fejlett vákuumreteszelés:

A PLC{0}}vezérelt pneumatikus szelepek, az automatizált nagyolás/nagy{1}}vákuum-szekvenálás, valamint a reteszelések védenek a hűtővíz-kimaradás és az áramellátási rendellenességek ellen.

Alacsony-szennyeződésű kamra:

A belső árnyékolás elektro{0}}polírozott rozsdamentes acélt használ, eltávolítható béléssel a részecskék gyors csökkentése és a karbantartási munkák elvégzése érdekében.

 

 

Film anyagok és szubsztrátok

 

Kompatibilis párologtató anyagok

Fémek: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrikumok és oxidok: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO

 

Aljzattípusok

Szilícium ostyák (2 hüvelyk és 12 hüvelyk között)
Optikai üveg, olvasztott szilícium-dioxid és kvarc hordozók
Rugalmas polimer fóliák (poliimid, PET tekercsről-tekercsre -modulok)
Kerámia hordozók (Al2O3, AlN)

 
 
 
Alkalmazások
High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

Optikai bevonatok:

Tükröződésmentes (AR) bevonatok, keskeny-sávú szűrők és nagy-tükrözésű tükrök lézeres és fotonikai rendszerekhez.

Electron Beam Thin Film Deposition System

Félvezető eszközök:

Ohmikus érintkezés kialakítása, kapufémezés és{0}}elvonási feldolgozás a mikroelektronikához.

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

Optoelektronika:

Átlátszó vezetőképes oxid (TCO) rétegek és vékony filmek OLED kijelzőkhöz és fotovoltaikus cellákhoz.

Electron Beam Evaporation Thin Film System

Haladó K+F:

Feltáró vékony{0}filmes mágneses rétegek, szupravezető filmek és több-rétegű heterostruktúrák.

 

Testreszabás és rendszerkonfiguráció
 
 

Minden vékonyfilmes A rendelkezésre álló műszaki adaptációk a következők:

 

Szivattyúkötél kiválasztása:

Turbó-molekuláris szivattyúk (TMP), krioszivattyúk vagy olaj-diffúziós konfigurációk az alapvákuum- és átviteli követelményekhez szabva.

 
 

Load{0}}Lock Integration:

Kézi betöltés-zár vagy automatizált több-kamrás klaszterrendszerek az ultra-magas vákuumintegritás megőrzéséhez és a lapka-áteresztőképesség növeléséhez.

 
 

In-In Situ metrológia:

Integrációs portok spektroszkópiai ellipszométerekhez, optikai monitorokhoz vagy maradékgáz-analizátorokhoz (RGA).

 
 

Vezérlő szoftver:

Szabadalmaztatott PLC/HMI interfész recepttárral, adatnaplózással és SECS/GEM kommunikációs protokollokkal az intelligens gyári integráció érdekében.

 

 

 
 
Gyártás és minőségellenőrzés
01.

Hajógyártás:

Minden vákuumkamrát hélium-tömegspektrométeres szivárgásvizsgálatnak vetnek alá, < 1 × 10^-9 Pa·m³/s kilökési küszöbértékkel.

02.

Hegesztési integritás:

AWI hegesztés inert gázos árnyékolás mellett, majd belső felület passziválása és mechanikus polírozása a gázkibocsátás csökkentésére.

03.

Gyári átvételi teszt (FAT):

72-órás folyamatos száraz{2}}futási teszt, amely a szivattyúzási görbéket, az e-gun sweep pontosságát, a reteszelés válaszidejét és a hőstabilitást méri a rekeszbe helyezés előtt.

04.

Megfelelés és szabványok:

ISO 9001 tanúsítvánnyal rendelkező minőségirányítási rendszer szerint gyártva, a CE-irányelveknek és a vonatkozó SEMI (S2/S8) biztonsági és ergonómiai irányelveknek megfelelően kialakított rendszerekkel.

 

Telepítés és műszaki támogatás
Helyszíni üzembe helyezés:-
A gyári-minősített szervizmérnökök gondoskodnak a mechanikai pozicionálásról, a közüzemi csatlakoztatásról (áram, hűtővíz, sűrített levegő) és a kezdeti vákuum{1}}sütésről.
Folyamat hangolás:
Együttműködésen alapuló próbafuttatások az ügyfél által{0}}meghatározott szubsztrátumok felhasználásával a lerakódási sebesség, az egyenletesség és a film tapadásának ellenőrzésére.
Életciklus karbantartás:
Garantált pótalkatrészek rendelkezésre állása nagy-kopású alkatrészekhez (szálak, tégelyek, pajzsok), valamint távoli diagnosztikai támogatás titkosított ipari VPN-kapcsolatokon keresztül.

 

 

GYIK

 

 

K: Mi a tipikus átfutási idő egy szabványos rendszerkonfigurációhoz?

V: A szabványos konfigurációkat a rajz jóváhagyásától számított 16-20 héten belül szállítják. A nagymértékben testreszabott rendszerek, amelyek speciális terhelésű-zárkonfigurációt vagy nem-szabványos kamrageometriát igényelnek, 24-30 hétig tartanak.

K: Hogyan akadályozza meg az anyagok kereszt{0}}szennyeződését a különböző elpárologtatók között?

V: A rendszer egyedi vízhűtéses kandallózsebeket használ, amelyeket termikus és fizikai akadályok választanak el, és optimalizált elektronsugaras seprési mintázatokkal párosul, amelyek kiküszöbölik az anyag fröccsenését.

K: Mik a létesítményi közműkövetelmények egy 10 kW-os rendszerhez?

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 L/perc), és száraz sűrített levegő (0,6–0,8 MPa) a pneumatikus szelepekhez.

Jól ismertek vagyunk-, mint az egyik vezető elektronsugaras párologtató vékonyréteg-berendezés gyártója és beszállítója Kínában. Ha személyre szabott, Kínában gyártott elektronsugaras párologtató vékonyréteg-berendezést szeretne vásárolni, kérjük, kérje gyárunk árlistáját. Árkonzultációért vegye fel velünk a kapcsolatot.

A szálláslekérdezés elküldése
Vegye fel velünk a kapcsolatotha kérdése van

Felveheti velünk a kapcsolatot telefonon, e-mailben vagy az alábbi online űrlapon. Szakértőnk hamarosan felveszi Önnel a kapcsolatot.

Lépjen kapcsolatba most!