Nagyvákuumú elektronsugaras elpárologtató berendezés

Nagyvákuumú elektronsugaras elpárologtató berendezés

Részletek
Az EBE{0}}sorozatú nagyvákuumú elektronsugaras elpárologtató rendszer nagy-tisztaságú vékonyrétegeket von le optikai, félvezető- és kohászati ​​alkalmazásokhoz. A mágnesesen fókuszált elektronsugarat a vákuumkamrában lévő forrásanyagokra irányítva a rendszer helyi felmelegedést és gyors párologtatást ér el. Ez a módszer megakadályozza a tégely szennyeződését, és hatékonyan dolgozza fel a tűzálló fémeket és a nagy-tisztaságú dielektrikumokat.
Termék besorolás
Elektronsugaras párologtató vékonyréteg-berendezés
 
A szálláslekérdezés elküldése
Leírás
Műszaki paraméterek

Az EBE{0}}sorozatú nagyvákuumú elektronsugaras elpárologtató rendszer nagy-tisztaságú vékonyrétegeket von le optikai, félvezető- és kohászati ​​alkalmazásokhoz. A mágnesesen fókuszált elektronsugarat a vákuumkamrában lévő forrásanyagokra irányítva a rendszer helyi felmelegedést és gyors párologtatást ér el. Ez a módszer megakadályozza a tégely szennyeződését, és hatékonyan dolgozza fel a tűzálló fémeket és a nagy-tisztaságú dielektrikumokat.


A rozsdamentes acél kamra krioszivattyúkat vagy turbomolekuláris szivattyúkat tartalmaz, amelyek 5 x 10^-5 Pa alatti alapnyomást érnek el, hogy minimalizálják a maradék gáz beépülését a film növekedése során.

 

Műszaki előírások

 

Paraméter

Specifikáció

Végső vákuumnyomás

< 5 x 10^-5 Pa (after 4-hour bake-out)

Szivattyú-leállási idő

< 15 min to 1 x 10^-3 Pa (empty, clean chamber)

E-A fegyver teljesítményének besorolása

6 kW - 15 kW (sweep frekvencia 100 Hz-ig)

E-Pisztoly konfigurációja

4 zsebes vagy 6 zsebes váltótégely (10-40 cc)

Aljzattartó mérete

200 mm átmérőjű aljzatokhoz vagy egyedi hordozólemezekhez használható

Aljzat forgási sebessége

0-30 ford./perc (változtatható sebesség állítható dőlésszöggel)

Filmvastagság egyenletessége

+/- 1% - +/- 2% 100 mm-es sugárban (bolygószerkezet)

Kamara anyaga

304 literes rozsdamentes acél (elektromos polírozott belső felület, Ra < 0,2 um)

 

Főbb jellemzők


Közvetlen E{0}}sugaras fűtés:Megkerüli az ellenállásos hajókorlátokat; megolvasztja a magas -olvadáspontú- anyagokat, beleértve a volfrámot, a platinát és az alumínium-oxidot.


Programozható sugárseprés:A két-tengelyű elektromágneses tekercsek elosztják a sugarat az elpárologtató felületen, megakadályozva a kráterképződést, és egyenletes anyagfelhasználást biztosítanak.


Több-zsebindexelés:A vízhűtéses réztégelyek- lehetővé teszik a szekvenciális több-rétegű leválasztást a vákuum feltörése nélkül.


QCM Díjfigyelés:Kettős kvarckristály-érzékelők figyelik a lerakódási sebességet és a filmvastagságot, közvetlenül a PLC/PID vezérlőhöz kapcsolódva.


Biztonsági architektúra:A hardveres reteszek védenek a hűtővíz meghibásodása, a magas kamranyomás és az ajtótömítés szivárgása ellen.

 

Vákuumrendszer konfigurációja


Nagyolási szakasz:A két-fokozatú forgólapátos szivattyú gyökérfúvóval párosítva gyors, 10 Pa-ig terjedő nagyolást tesz lehetővé.


Magas vákuum fokozat:Turbó-molekuláris szivattyú (1200 l/s és 2200 l/s között) zárt-hurkú hélium kriogén szivattyúval, pneumatikus tolózárral elválasztva.


Nyomásfigyelés:A teljes-pirani/hidegkatódos mérőműszerek a kamranyomást az atmoszférától az ultra-nagy vákuumig követik.


Diagnosztika:A KF és CF karimás portok hélium szivárgásérzékelőket tartalmaznak.

 

Film anyagok és szubsztrátok

 

Támogatott párologtató anyagok

Fémek: Ti, Cr, Al, Au, Ag, Pt, Ni, Cu, Ta, W, Mo
Dielektrikumok: SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, ZrO2, HfO2

 

Kompatibilis szubsztrátumok

Egy-kristály szilícium lapkák (átmérő 100 mm-től 300 mm átmérőig)
Optikai üveg, olvasztott szilícium-dioxid és kvarc
Alumínium-oxid (Al2O3) és alumínium-nitrid (AlN) kerámia
Rugalmas fémfóliák és poliimid fóliák (tekercs--tekercs{1}}modulokon keresztül)

Alkalmazások


Félvezető gyártás:Fém kapuérintkezők, diffúziós gátrétegek és ohmos érintkezők (Ti/Pt/Au, Cr/Au).


Optikai interferencia szűrők:Többrétegű bevonatok lézertükrökhöz, sávszűrőkhöz és -visszaverődésmentes lencsékhez váltakozó dielektromos oxidokkal.


Fotovoltaikus K+F:Vékony{0}}filmrétegek perovszkit és CIGS napelemekhez.


Funkcionális bevonatok:Védő fémoxid rétegek repülőgépekhez és érzékelőelemekhez.

 

Testreszabás


Kamra geometriája:Függőleges vagy vízszintes hengeres kamrák méretezve nagy lapos panelekhez vagy 3D alkatrészekhez.


Alapfelület módosítása:DC/RF előfeszítés ion{0}}asszisztált leválasztáshoz (IAD) és hordozófűtőkhöz 600 °C-ig.


Load{0}}Lock Integration:Egy- vagy kettős-szelettöltő-zárkamra a szivattyú-leállítási ciklusok csökkentésére a nagy-áteresztőképességű futások során.


Vezérlés integráció:Testreszabott PLC/SCADA szkriptek, amelyek támogatják a receptautomatizálást, az adatnaplózást és a SECS/GEM kommunikációt.

 

Minőségellenőrzés


Hélium tömegspektrométeres szivárgásvizsgálat:A kamrákat 1 x 10^-9 Pa*m^3/s alatti küszöbértékre tesztelték a gyári átvétel előtt.


Elektromos biztonsági ellenőrzés:A CE/IEC szabványok szerint végrehajtott nagy-feszültségű szigetelési ellenállás, földelés folytonossága és reteszelési tesztek.


Méretvizsgálat:Koordináta mérőgép (CMM) a tömítőfelületek és a karimák beállításainak ellenőrzése.


Gyári átvételi teszt (FAT):Vákuumszivattyúk, mozgószerelvények és tápegységek 72 órás folyamatos száraz üzeme teljes adatjelentésekkel.

 

Telepítés és műszaki támogatás


Helyszíni üzembe helyezés:-A mérnökök kezelik a kamra szintezését, a közüzemi csatlakozásokat (víz, áram, gáz, kipufogó) és a kezdeti vákuum{0}}sütést.


A folyamat kalibrálása:A műszaki támogatás meghatározza az alapvonali lerakódási arányokat és a filmvastagság kalibrációs görbéit a helyszíni átvételi teszt (SAT) során.


Pótalkatrészek kiszállítása:A kritikus kopóalkatrészek-szálak, olvasztótégelyek, QCM-kristályok és vákuumtömítések-helyben tárolva.


Távdiagnosztika:A biztonságos diagnosztikai modulok lehetővé teszik a valós{0}}idejű PLC-naplók lekérését a gyors hibaelhárítás érdekében.

 

Gyakran Ismételt Kérdések

 

K: Mi a maximális vastagság egyenletessége 200 mm-es hordozón?

V: A vastagság egyenletessége +/- 1.5%-on belül marad 200 mm átmérőjű területen, ha a bolygókerekes forgószerelvényt használják.

K: A rendszer képes kezelni a reaktív párolgási folyamatokat?

V: Igen. Az integrált tömegáram-szabályozók (MFC-k) oxigént, nitrogént vagy argont fecskendeznek be a reaktív oxid- és nitridfilmek kialakításához.

K: Milyen közműkövetelményeket kell elkészíteni a webhelyen-?

A: The system requires a dedicated 3-phase power supply (380V/480V, 50/60 Hz), chilled water (>40 l/perc, 20 +/- 2 fok C), sűrített levegő (0,4–0,6 MPa) és nagyoló szivattyú kipufogóvezeték.

K: Mik a tipikus átfutási idők?

V: A szabványos konfigurációkat 12-16 héten belül szállítjuk. A rakodózárral vagy speciális kamrával rendelkező egyedi rendszereknek 20-26 hétre van szükségük a FAT-ig történő jóváhagyástól számítva.

 

Népszerű tags: nagyvákuumú elektronsugaras elpárologtató berendezések, Kína nagyvákuumú elektronsugaras elpárologtató berendezések gyártói, beszállítói, gyárai, vékonyréteg -szárítóberendezés, Vékony filmkészítés az adattároláshoz

A szálláslekérdezés elküldése
Vegye fel velünk a kapcsolatotha kérdése van

Felveheti velünk a kapcsolatot telefonon, e-mailben vagy az alábbi online űrlapon. Szakértőnk hamarosan felveszi Önnel a kapcsolatot.

Lépjen kapcsolatba most!