Termék áttekintése

 

A PVD Composite Thin Film Equipment egy ipari vákuumleválasztási platform, amelyet több-rétegű, ötvözet- és nanokompozit vékonyrétegek felhordására terveztek. A magnetron porlasztó és katódos ívforrásokat egyetlen vákuumkamrába integrálva a rendszer lehetővé teszi a film mikroszerkezetének, a maradék feszültségnek és a felületi adhéziónak a pontos szabályozását. A folyamatos gyártásra és a fejlett K+F-re épített platform fém, kerámia és polimer szubsztrátumokhoz méretezhető kamrageometriával rendelkezik.

 
  • PVD kompozit vákuumleválasztó berendezés
    Ez az ipari PVD kompozit vákuumleválasztási platform több leválasztási technikát integrál egyetlen kamrás környezetbe, így egyenletes, többrétegű fém-, ötvözet- vagy dielektromos vékonyrétegeket...
    még több
  • PVD hibrid vékonyréteg-leválasztó rendszer
    A PVD Hybrid Thin Film Deposition System egyetlen vákuumarchitektúrán belül integrálja a termikus párologtatást, az elektronsugaras (e-nyaláb) elpárologtatást és az RF/DC magnetronporlasztást. Ez...
    még több
  • PVD Multi{0}}Vékonyfilm-feldolgozó berendezés
    A PVD Multi{0}}Process Thin Film Equipment egy integrált vákuumleválasztási platform, amelyet úgy terveztek, hogy több vékonyréteg-előállítási technikát – köztük az RF/DC mágnesporlasztást, a...
    még több
  • PVD kompozit lerakó berendezések
    Az ipari PVD kompozit felhordó berendezéseket több-komponensű, több-rétegű és nano-kompozit vékony-film gyártására tervezték. A rendszer egyetlen vákuumkörnyezetbe integrálja a hőpárologtatást, az...
    még több
  • PVD kompozit vékonyréteg rendszer
    Ipari -minőségű vákuumbevonatrendszer, amely integrálja a magnetronos porlasztást (RF/DC/HiPIMS) és a katódos ívpárologtatást. Folyamatos, több-rétegű, ötvözet- és nano-kompozit...
    még több
  • PVD kompozit vékonyréteg-berendezés
    A PVD Composite Thin Film Equipment egy ipari vákuumplatform, amelyet több-rétegű, ötvözött és osztályozott vékony filmek szintetizálására terveztek. A moduláris 304L/316L rozsdamentes acél...
    még több
 
Műszaki előírások

 

Paraméter

Specifikációs tartomány

Végső vákuumnyomás

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Üzemi nyomás

0,1 Pa - 5.0 Pa

Aljzat hőmérséklete

Környezeti szög 800 fokig (zárt-hurkú PID vezérlésű)

Lerakódási források

Konfigurálható: DC/RF mágneses porlasztás, impulzusos egyenáram, szűrt katódív

Vastagság Egyenletesség

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Kamara anyaga

304L/316L rozsdamentes acél, mechanikusan köszörült és elektro-polírozott (Ra<= 0.4 um)

Tápegység integráció

MF generátorok (10-100 kHz), RF generátorok (13,56 MHz), impulzusos DC előfeszítés

Vezérlőrendszer

Ipari PLC + IPC automatizált receptvégrehajtással, reteszelés figyeléssel és kötegelt adatnaplózással

 

Összetett lerakódási eljárás

A rendszer hibrid fizikai gőzleválasztásos architektúrát alkalmaz, amely kombinálja a magnetronos porlasztást és a katódos ívtechnológiát.

Több-forrás szinergia:

Több katód egyidejű vagy egymás utáni működése hirtelen vagy fokozatos kompozíciós átmeneteket tesz lehetővé a filmkötegben.

 

Ionmaratással végzett elő{0}}tisztítás:

Az RF vagy egyenáramú plazmatisztító lépések eltávolítják a natív oxidokat és a felületi szennyeződéseket a lerakódás előtt, hogy maximalizálják a bevonat-az-felület tapadását.

Reaktív lerakódás szabályozása:

A zárt-hurkú optikai emissziós spektroszkópia (OES) szabályozza a reaktív gázbefecskendezést (O2, N2, C2H2), hogy fenntartsa a stabil vegyület sztöchiometriát és megakadályozza a célpont mérgezését.

Szubsztrát előfeszítés:

A szinkronizált impulzusos előfeszítésű tápegységek nagy-energiájú ionokkal bombázzák a növekvő fóliát, sűrítik a mikrostruktúrát és testre szabják a maradék nyomófeszültséget.

 

Film anyagok

A berendezés a célanyagok széles spektrumát támogatja a testre szabott funkcionális követelményekhez:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Átmeneti fém nitridek és karbidok:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN a kopás- és korrózióállóságért.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Nanokompozit és többrétegű rendszerek:

TiSiN, AlTiSiN, fém/kerámia nanorétegek az extrém keménységért és magas hőmérsékletű -hőmérsékleti stabilitásért.

 
PVD Composite Thin Film System

Átlátszó vezető oxidok (TCO):

ITO, AZO, IGZO optoelektronikai és fotovoltaikus alkalmazásokhoz.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Tiszta fémek és ötvözetek:

Ti, Cr, Al, Cu, Rozsdamentes acél, NiCr elektromos érintkezési és diffúziós gátrétegekhez.

 
Alkalmazások
 
 
 

Precíziós vágószerszámok:

Szuper-kemény, alacsony súrlódású-bevonatok (pl. TiAlN) felhordása keményfém lapkákra, fúrókra és szármarókra-, hogy meghosszabbítsák az élettartamot nagy hőterhelés mellett.

 
 

Autóipari alkatrészek:

Súrlódás-csökkentő és kopásálló-fóliák a dugattyúgyűrűkön, az üzemanyag-befecskendező alkatrészeken és a hajtóműveken.

 
 

Optoelektronika és kijelzők:

Alacsony-ellenállású, nagy-áteresztőképességű vezetőképes oxidrétegek érintőpanelekhez és napelem-hordozókhoz.

 
 

Orvosi eszközök:

Biokompatibilis és kopásálló-bevonatok sebészeti műszereken és ortopédiai implantátumokon.

 

 

Testreszabás és rendszerkonfiguráció

A mérnöki konfigurációk a gyártólétesítmény adott korlátaihoz és a folyamatreceptekhez igazodnak:

Kamra mérete:

Hengeres vagy téglalap alakú kamrás lehetőségek a K+F szakaszos rendszerektől (500 mm átmérőjű) a nagy-termelési terhelésű-zárrendszerekig (1000 mm+).

01

Pumping Suite választék:

A gyökérfúvók, turbomolekuláris szivattyúk és kriogén szivattyúk megfelelő szivattyú-leállási ideje és gázterhelési profilja alapján.

02

Aljzatrögzítés:

Testre szabott bolygóforgatási fokozatok, 3-tengelyű műholdforgatás, vagy tekercsről{2}} gördülő modulok, amelyeket összetett 3D geometriákhoz vagy folyamatos hálókhoz terveztek.

03

Automatizálási szint:

Félig{0}}automata kézi betöltési konfigurációk vagy teljesen automatizált vákuumátviteli rendszerek robotizált hordozókezeléssel.

04

 

Gyártás és minőségellenőrzés
 

Szivárgás észlelés:

Minden vákuumkamrát hélium tömegspektrométeres szivárgásvizsgálatnak vetik alá < 1 x 10^-10 Pa * m^3/s küszöbértékig.

Hegesztési ellenőrzés:

A vákuum-oldalhegesztéseket AWI hegesztéssel, köszörüléssel és polírozással végzik, majd kérésre röntgen- vagy festékbehatolási vizsgálatot végeznek.

Elektromos és biztonsági megfelelőség:

Az NFPA 79 vagy CE/IEC szabványoknak megfelelően épített vezérlőpanelek, amelyek hardveres reteszeléssel rendelkeznek a vízáramlás, a gáznyomás és az elektromos biztonság érdekében.

Gyári átvételi teszt (FAT):

A szállítás előtti tesztelés magában foglalja a 72-órás folyamatos szárazon-futást, a vákuumteljesítmény-ellenőrzést és a bevonat tesztfelhordását az ügyfél által megadott receptek alapján.

 

 

Telepítés és műszaki támogatás

A webhely előkészítésének irányelvei:Átfogó létesítményi követelményeket tartalmazó dokumentum, amely részletezi a közüzemi interfészeket (hűtővíz áramlása/nyomása, elektromos terhelés, sűrített levegő, kipufogó).


Helyszíni üzembe helyezés:-A helyszíni szervizmérnökök elvégzik a mechanikai beállítást, a vákuumszivárgás-ellenőrzést, az elektromos bekötéseket{0}} és a kezdeti kalibrációt.


Folyamat recept hangolása:Helyszíni együttműködés az ügyfelek kohászaival és folyamatmérnökeivel a filmvastagság, a feszültség és a keménység célparamétereinek rögzítése érdekében.


Életciklus támogatás:Távoli diagnosztikai interfész, lokalizált pótalkatrész-készlet és ütemezett megelőző karbantartási programok.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

GYIK

 

 

K: Mennyi a tipikus szivattyú{0}}leállási idő az alapnyomás eléréséhez?

V: Szabványos nagy-vákuumkonfigurációkat használva (turbomolekuláris vagy kriogén szivattyúk, amelyek gyökerekkel/forgólapátos szivattyúkkal párosulnak), a kamra 25-40 percen belül kiürül a légkörből <5,0 x 10^-4 Pa nyomásra, a kamra térfogatától és a nedvességkibocsátó terheléstől függően.

K: A rendszer képes automatikusan váltani a reaktív és nem{0}}reaktív porlasztási módok között?

V: Igen. A PLC vezérlőszoftver dinamikusan kezeli a tömegáram-szabályozókat (MFC) és a tápegység kimeneteit, lehetővé téve az automatikus átmenetet a fémlerakódás és a reaktív vegyület képződése között egyetlen folyamaton belül.

K: Milyen szubsztrát geometriákat tud fogadni a szabványos bolygóforgási fokozat?

V: A szabványos 3 tengelyes planetáris rögzítés olyan összetett 3D-s komponenseket kezel, mint a vágószerszámok és az autószelepek. Egyedi fúrók tervezhetők lapos aljzatokhoz 400 mm x 400 mm-ig vagy hengeres tekercsekhez.

K: Hogyan biztosítható a filmvastagság egyenletessége nagy tételekben?

V: Az egyenletességet az optimalizált katód---távolság, a lokalizált mágneses mező profil szimulációja és a több-tengelyű bolygóforgás biztosítja. A tényleges egyöntetűséget a FAT során végzett mintavizsgálattal igazolják.

K: Mik a közüzemi követelmények egy szabványos ipari egységhez?

V: Általában háromfázisú 380V/480V (50/60Hz), hűtött hűtővíz-ellátás (körülbelül 15-20 fok 3-4 bar nyomáson), sűrített levegő (6 bar) a pneumatikus szelepekhez és tiszta száraz levegő vagy nitrogén a légtelenítéshez. A pontos terhelések a tápegység konfigurációjától függően változnak.

Jól ismertek{0}}, mint az egyik vezető pvd kompozit vékonyréteg-felszerelés gyártója és beszállítója Kínában. Ha Kínában gyártott, testreszabott pvd kompozit vékonyréteg-berendezést szeretne vásárolni, várjuk gyárunk árlistáját. Árkonzultációért vegye fel velünk a kapcsolatot.

A szálláslekérdezés elküldése
Vegye fel velünk a kapcsolatotha kérdése van

Felveheti velünk a kapcsolatot telefonon, e-mailben vagy az alábbi online űrlapon. Szakértőnk hamarosan felveszi Önnel a kapcsolatot.

Lépjen kapcsolatba most!