A PVD Hybrid Thin Film Deposition System egyetlen vákuumarchitektúrán belül integrálja a termikus párologtatást, az elektronsugaras (e-nyaláb) elpárologtatást és az RF/DC magnetronporlasztást. Ez a platform lehetővé teszi a fémek, ötvözetek és dielektrikumok szekvenciális vagy{2}}együttes lerakódását a vákuum feltörése nélkül, megakadályozva ezzel a határfelületi oxidációt. A K+F intézményekhez és kísérleti gyártósorokhoz tervezett rendszer akár 6 hüvelykes szubsztrátumokat is kezel automatizált több-tengelyes forgatással.
Műszaki előírások
|
Paraméter |
Specifikáció |
|
Végső alapnyomás |
< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out) |
|
Szivattyú{0}}leállási ideje |
< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa |
|
Aljzat mérete |
Akár 6 hüvelyk átmérőjű ostya / egyedi tartók |
|
Filmvastagság egyenletessége |
<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation) |
|
Lerakódási források |
Akár 3 e-sugárzseb, 2 hőcsónak, 4 magnetron katód |
|
Aljzat hőmérséklete |
Környezeti hőmérséklet 800°C-ig (PID vezérlésű) |
|
Kamara anyaga |
304L / 316L elektropolírozott rozsdamentes acél |
|
Biztonsági megfelelőség |
CE-kompatibilis; kérésre az UL / NFPA szabványok szerint épített alkatrészek |
Főbb jellemzők
Moduláris aljzatok:A cserélhető forrásperemek gyors újrakonfigurálást tesznek lehetővé a porlasztókatódok és a termikus/e{0}}sugár elpárologtatók között.
Izolációs architektúra:A pneumatikus tolózárak elszigetelik a folyamatkamrát a nagy{0}}vákuumrendszertől a részecskeképződés minimalizálása érdekében.
Helyszíni megfigyelés:Dedikált portok kvarckristály mikromérleg (QCM) érzékelőkhöz és optikai emissziós spektroszkópiához (OES).
Reteszelt biztonsági PLC:A hardverreteszelések megakadályozzák a forrás aktiválását nagy nyomás, hűtővíz-kimaradás vagy biztonsági megsértés esetén.
Vákuumrendszer konfigurációja
Nagyoló szivattyú:Száraz scroll szivattyú (30 m^3/h) a szénhidrogén-visszaáramlás kiküszöbölésére.
Nagy vákuum szivattyú:Mágnesesen levitált turbomolekuláris szivattyú (1200 l/s N2 esetén), kriogén csapdával támogatott.
Mérők:Kombinált Pirani és Cold Cathode érzékelők, amelyek 10^-7 Pa-ig terjednek az atmoszférában.
Kisütés:Patronos fűtőköpenyek külső szigetelő takaróval akár 150°C-ig.
Anyag- és alapfelület-kompatibilitás
Párologtató anyagok:
Fémek:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni
Dielektrikumok és oxidok: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO
Félvezetők:Si, Ge
Aljzattípusok:Egy-kristály szilícium lapkák, üveg, kvarc, poliimid fóliák és fémfóliák.
Alkalmazások
Optoelektronikai eszközök:Átlátszó vezetőképes elektródák (ITO) és több-rétegű reflektorok OLED-ekhez és napelemekhez.
Mikroelektronikai csomagolás:Alatt-dump fémezés (UBM) és magrétegek ostya-szintű csomagoláshoz.
Haladó K+F:Kvantumeszköz-struktúrák, szupravezető vékonyrétegek és mágneses alagút csomópontok (MTJ).
Testreszabási lehetőségek
Kamara skála:Bővített méretek 12 hüvelykes aljzatokhoz vagy kesztyűtartó beépítéshez.
Forrás beállítása:Egyedi tégelytérfogatok, RF előfeszítésű tápegységek és ion-rásegítésű leválasztási (IAD) modulok.
Automatizálás:Érintőképernyős receptkezelés vagy teljes SECS/GEM gyári automatizálási megfelelőség.
Minőségellenőrzés
Szivárgásvizsgálat:Hélium tömegspektrométer vizsgálat kamránként (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).
Méretellenőrzések:A forrás CMM-ellenőrzése-a-alaptávolságok és a karima tűréseinek meghatározásához.
Elektromos tesztelés:Szia-Tesztelés, földelés folytonossági ellenőrzése és EHS-audit minden nagy-feszültségű vezetéken.
Telepítés és támogatás
Gyári átvételi teszt (FAT):-Szállítás előtti ellenőrzések az alapnyomásra, a forrásfunkciókra és az automatizált kerékpározásra vonatkozóan üzemünkben.
Helyszíni telepítés:Helyszíni mechanikus igazítás,{0}}közműcsatlakozás ellenőrzése és helyszíni elfogadási tesztelés (SAT).
Dokumentáció:A teljes szállítás tartalmazza az elektromos kapcsolási rajzokat, P&ID diagramokat, PLC biztonsági mentéseket és malomvizsgálati tanúsítványokat.
GYIK
K: Válthat a rendszer a reaktív porlasztás és a termikus elpárologtatás között egyetlen menetben?
V: Igen. A pneumatikus redőnyök minden forrást elkülönítenek, lehetővé téve a szekvenciális végrehajtást a vákuum megszakítása nélkül.
K: Mik a létesítmény közművel kapcsolatos követelményei?
V: Háromfázisú 380V/480V tápellátás, hűtővíz (18°C és 22°C között 0,3 MPa), sűrített levegő (0,5-0,7 MPa) és egy nagyoló szivattyú kipufogóvezeték szükséges.
K: Hogyan akadályozható meg a fémforrások közötti keresztszennyeződés-?
V: Az egyedi forrású kémények, az irányított terelőlapok és a fizikai redőnyök minimalizálják az anyagok át-beszédét a több-forrású futás során.
Népszerű tags: pvd hibrid vékonyréteg-leválasztó rendszer, Kína pvd hibrid vékonyréteg-leválasztó rendszer gyártói, beszállítói, gyárai
