Az ion-támogatott vákuumpárologtatási rendszer nagy-vákuum-termikus vagy elektronsugaras{2}}párologtatási forrásokat integrál Kaufman-típusú vagy End-Hall-ionforrással. Azáltal, hogy a növekvő filmet ionizált gázzal (Ar vagy O2) bombázza a fizikai gőzleválasztás (PVD) során, a rendszer kinetikus energiát ad át az adatomoknak, elnyomja az oszlopos mikrostruktúrát, és megakadályozza a nedvesség felszívódását az optikai és dielektromos vékonyrétegekben.
A tisztatéri integrációra és a folyamatos, több műszakos{0}}gyártásra készült rendszer a K+F alapterülettől (300 mm-es kamrák) a nagy-áteresztőképességű ipari vonalakig (900 mm-es kettős-ajtós és bolygóforgatású konfigurációk) terjed.
Műszaki előírások
|
Paraméter kategória |
Műszaki előírás |
|
Kamra méretei |
600 mm x 600 mm x 600 mm (1200 mm-ig testreszabható) |
|
Kamara anyaga |
304L rozsdamentes acél, belső felületei elektropolírozva Ra < 0,2 um értékre |
|
Alapnyomás |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Achieved within 45 minutes from atmosphere) |
|
Végső nyomás |
<= 8.0 x 10^-6 Pa |
|
Párolgási források |
Több-zsebű E-sugaras pisztoly (6 x 15 cm3 / 4 x 40 cm3) és rezisztív hőforrások |
|
Ionforrás |
Vége-Hall / rács nélküli ionforrás (sugárfeszültség: 50-300 V, ionáram: 0-500 mA) |
|
Szubsztrát rögzítés |
Bolygóforgató mechanizmus (0-20 RPM) opcionális fűtéssel (RT 350 C-ig) |
|
Filmvastagság szabályozás |
Quartz Crystal Microbalance (QCM) kettős érzékelőfejjel és PID zárt{0}}hurkú vezérlővel |
Főbb jellemzők
Közel{0}}Tömegsűrűség:A megnövelt adatom felületi mobilitás kiküszöböli a film látható porozitását és maximalizálja a mechanikai keménységet.
A belső stressz hangolása:Az állítható ionsugár energiája semlegesíti a mechanikai igénybevételt, megakadályozva a rétegleválást a vastag dielektromos kötegeken.
Alacsony-termikus-költségvetés:A lendületes-sűrítés nagy-teljesítményű bevonatot tesz lehetővé hőmérséklet--érzékeny polimer szubsztrátumokon, hőtorzulás nélkül.
Recept automatizálás:PLC{0}}vezérelt vákuumreteszelések és szivattyú-lefelé irányuló szekvenálás, ipari érintős-panel HMI-n keresztül kezelve adatnaplózással.
Vákuumrendszer konfigurációja
Nagyolási szakasz:Két-fokozatú forgólapátos mechanikus szivattyú gyökérfúvóval (150 l/s sebesség) a gyors átkapcsolás érdekében.
Magas vákuum fokozat:Mágnesesen lebegtetett turbomolekuláris szivattyú (1600 L/s), amelyet olajmentes, száraz scroll pumpa támogatja a szénhidrogén-visszaáramlás kiküszöbölése érdekében.
Kriogén opció:Folyékony nitrogén hidegcsapda és krioszivattyú integrálása alacsony vízgőz{0}}parciális nyomásokhoz.
Vákuummérés:Kereszt-kalibrált Pirani és Cold Cathode műszerek a valós idejű visszajelzéshez-a légkörtől 10^-7 Pa-ig.
Párolgási anyagok és szubsztrátum kompatibilitás
Párolgási anyagok
oxidok:SiO2, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, Al2O3
Fluoridok:MgF2, LaF3
Fémek:Al, Ag, Au, Ti, Kr
Aljzatkompatibilitás
Optikai szubsztrátumok:Olvasztott szilícium-dioxid, N-BK7, szilícium, germánium és cink-szelenid ablakok.
Félvezető lapkák:100-300 mm-es szilícium és összetett félvezető lapkák.
Polimerek:PET, PI (poliimid) és PMMA fóliák alacsony{0}}hőmérsékletű IAD paraméterekkel.
Alkalmazások
Precíziós optika:Reflexiós (AR) bevonatok, lézertükrök és keskeny sávszűrők, amelyek nedvességállóságot igényelnek.
Mikroelektronika:Fém kapuelektródák, adhéziós rétegek és passzivációs gátak félvezető csomagolásban.
Optoelektronika:Átlátszó vezetőképes oxid (TCO) érintkezők és OLED nedvesség{0}}záró tokozási rétegek.
Testreszabási lehetőségek
Kamra geometriája:Téglalap vagy hengeres konstrukciók a tisztatér falának korlátaihoz szabva.
Több-forrás integráció:Együtt{0}}elpárologtatási beállítások, amelyek legfeljebb három E-sugaras löveghez és négy termikus csónakhoz használhatók.
In-In Situ metrológiai portok:Karimás integrációs portok spektroszkópiai ellipszométerekhez vagy optikai megfigyelőrendszerekhez.
Automatizálási szint:Félautomata{0}}kutatások vagy teljesen automatizált kazetta----kazetta-szeletkezelés.
Minőség-ellenőrzési és tesztelési protokollok
Szivárgás észlelés:Hélium tömegspektrométeres vizsgálat minden kamrában, szigorú kilökési küszöbértékkel < 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Tisztaságellenőrzés:A maradékgáz-elemző (RGA) vizsgálata a szállítás előtt{0}}végrehajtott a szerves szénhidrogén-mentesség ellenőrzésére.
Rendszerbeégés-be:72-órás folyamatos szárazonfutási teszt a mechanikus hajtásokhoz, a hűtőelosztókhoz és az elektromos reteszekhez.
Dokumentáció:Anyaggyári vizsgálati tanúsítványok (MTR), elektromos kapcsolási rajzok és gyári átvételi teszt (FAT) jelentések.
Telepítés és műszaki támogatás
Az oldal előkészítése:Detailed facility guide covering floor loading, chilled water (>= 5 m^3/h), tiszta, száraz levegő (CDA) és kipufogógáz.
Üzembe helyezés:Helyszíni szolgáltatás telepítése a mechanikus szintezéshez, a segédprogramok csatlakoztatásához, a vákuumkalibrációhoz és a recept{0}}kijelentkezéshez.
Kezelői képzés:5-napos helyszíni program az üzemeltetésről, a megelőző karbantartásról, a hibaelhárításról és a biztonsági reteszelésekről.
Alkatrészek:Kritikus kopású cikkek (szálak, QCM kristályok, tömítések, turbomolekuláris csapágyak) regionálisan raktározzák.
Gyakran Ismételt Kérdések
K: Hogyan akadályozza meg az IAD a törésmutató eltolódását?
V: Az ionos bombázás kiszorítja a visszamaradt gázokat, és a filmnövekedést közel -tömbsűrűségre tömöríti. Ez megakadályozza a környezeti pára lecsapódását a légköri szellőztetéskor, biztosítva a nulla középső-hullámhossz-eltolódást az idő múlásával.
K: Mi a karbantartási intervallum az ionforrás rácsokhoz és filamentekhez?
V: Vége-A Hall-ionforrások 150-200 folyamatóráig működnek a reaktív gázoktól függően. A gyorskioldó bilincsek lehetővé teszik az alkatrészek 30 perc alatti cseréjét.
K: A rendszer képes kezelni az olyan reaktív folyamatokat, mint a TiO2?
V: Igen. A speciális, nagy-pontosságú tömegáram-szabályozók (MFC-k) közvetlenül a kamrába és az ionforrásba fecskendezik be az oxigént vagy a nitrogént, biztosítva a teljes sztöchiometriát és kiküszöbölve a szub-oxid-abszorpciót.
Népszerű tags: ion-asszisztált vákuumpárologtató berendezések, Kína ion-asszisztált vákuumpárologtató berendezések gyártói, beszállítói, gyár
